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                更新時間:2023-04-11

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                Chemicals typically used in prime face polishing of semiconductor wafers or electronic and optoelectronic crystals, such as Bromine Methanol or acid etches, are highly aggressive and require ......
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                更新時間:2018-10-10

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                Logitech CP3000化學拋光設備能很好的滿足腐蝕拋光溶劑,同樣也適用于腐蝕性較弱的Chemlox拋光,如半導體晶片的背拋光?,F在的電子器件對于晶片尺寸,表面平整度、平行度及厚度控制都有非??量痰目刂埔?,而CP3000化學拋光機,特別是跟Logitech的晶片處理系統配合使用作為Z后一個步驟時,能*達到這些控制標準。
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